Shenzhen, China
Cantón, China
Equipo de deposición química en fase vapor asistida por plasma PECVD
◆ cantidad de carga: 384 piezas/barco (125 × 125); 336 piezas/barco (156 × 156) | ◆ limpieza de la mesa de purificación: Grado 100 (planta de Grado 10000) | ◆ grado de automatización: control automático de temper...
Cantón, China
PVD Physical vapor deposition
There are three types of equipment: 500, 700 and 900.The system is mainly composed of evaporation chamber, rotating substrate frame, light heating system, electron gun and electron gun power supply, quartz crysta...
Cantón, China
MDICP-5000F máquina de etching ICP totalmente automática
▲ sistema de alarmas: Requisitos de seguridad para el equipo. | 1. vacío de límite: Cámara de grabado 9.0×10-5 Pa (humedad interior ≤55%) | 2. material de grabado: Ⅲ、ⅤMaterial、Si 、SiO2, etc | 3. tasa de grabado: ...
Cantón, China
Cantón, China
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Cantón, China
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