Usado Litografía (Fotolitografía)

PHOTO SK-200W-BVPE

• Fabricante: PHOTO

Proceso: i-Line Photo Track(3C3D) | Tamaño de la oblea: 8"

PCB solder mask exposure LDI exposure machine

• Fabricante: Everest Group

No.: Elemento; especificación técnica; observaciones | 1: Modelo de máquina de exposición; ADI-ST-650. | 2: Tipo de mesa; Mesa única. | 3: Métodos de carga y descarga; Manual. | 4: Tamaño máximo del sustrato; 635...

NIKON S620D

• Fabricante: Nikon
• Modelo: S620D

Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: Láser de excímero | Envío: EXW

SCREEN DUOI

• Fabricante: Screen

Envío: EXW

1997 DNS SK-200W

• Fabricante: Dainippon Screen
• Modelo: SK-200W-AVPF

Tamaño de la oblea: 8" | Proceso: 2C / 2D

LABOTECH HOT PLATE

• Fabricante: Labotech

Proceso: FOTÓNICA | Tamaño de la oblea: * | Envío: EXW

2009 DNS SU-3000

• Fabricante: Dainippon Screen
• Modelo: SU3000

Tamaño de la oblea: 12"

KARLSUSS RC16

• Fabricante: KARLSUSS

Proceso: TEJEDOR | Tamaño de la oblea: * | Envío: EXW

2006 DNS SU-3000

• Fabricante: Dainippon Screen
• Modelo: SU3000

Tamaño de la oblea: 12"

KARLSUSS RC16

• Fabricante: KARLSUSS

Proceso: TEJEDOR | Tamaño de la oblea: * | Envío: EXW

DGP8761

• Fabricante: SSMC

DFG8540

• Fabricante: SSMC

Semi Auto-Stepper

• Fabricante: semiconductor equipment manufacturing

ESI 9830

• Fabricante: ESI

2007 Tel ACT12

• Fabricante: Tokyo Electron - TEL
• Modelo: ACT-12

Mínimo: 300 mm | Máximo: 300 mm | Otra información: Piezas faltantes: ADI y bastidor de extinción de incendios | Marcado ce: SI | Anchura: 135.039  en  (343.0 cm) | Profundidad: 93.307  en  (237.0 cm) | Altura: 1...