Usado Equipos De Deposición (Cvd, Pvd)

FBR ACTIVADO PARA CARBONO POROSO

MOVIMIENTO DE TUBO DE CARBONO NANOTUBO

EJE AMAT

• Fabricante: Amat
• Modelo: Centura

Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: ETCH DE ÓXIDO | Cámara: SOLO CÁMARA

EJE AMAT

• Fabricante: Amat
• Modelo: Centura

Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: ETCH DE ÓXIDO | Cámara: SOLO CÁMARA

MATERIALES APLICADOS 01397-02 02 MKS AS00266-05 01 TARJETA HDPCVD (R3S11.7)

• Fabricante: Amat

Tipo de equipo/componente: TARJETA HDPCVD | Mpn: 01397-02 02

DINÁMICA DIGITAL NOVELLUS 02-252397-00 D 4.72 HDSIOC 2 CONTROLADOR DE VECTOR

• Fabricante: DIGITAL DYNAMICS NOVELLUS
• Modelo: Vector

Mpn: 02-252397-00 D 4.72

NIHON KOSHUHA MKS050B-PS MKS-050B05DL-PS-V VER 2.1 RF GENERATOR

• Fabricante: NIHON KOSHUHA

Tipo de equipo/componente: GENERADOR DE RADIOFRECUENCIA | Mpn: MKS-050B05DL-PS-V | Ver: 2.1

NOVELLUS DIGITAL DYNAMICS INC VECTOR HDSIOC 1 VER 5.00 02-252396-00 D FW 4.72 CO

• Fabricante: Lam Research - Novellus
• Modelo: Vector

Mpn: 02-252396-00

NOVELLUS DIGITAL DYNAMICS INC VECTOR HDSIOC 1 VER 5.00 02-252396-00 D FW 4.72 CO

• Fabricante: Lam Research - Novellus
• Modelo: Vector

Mpn: 02-252396-00

DINÁMICA DIGITAL NOVELLUS 02-252397-00 D 4.72 HDSIOC 2 CONTROLADOR DE VECTOR

• Fabricante: Lam Research - Novellus
• Modelo: Vector

Mpn: 02-252397-00 D 4.72

NOVELLUS DIGITAL DYNAMICS INC VECTOR HDSIOC 1

• Fabricante: Lam Research - Novellus
• Modelo: Vector

Aplicaciones de Materiales Aplicados para Manufactura de Semiconductores

• Fabricante: Amat

2004 ULTECH VERTICAL LPCVD SYTEM

• Fabricante: ULTECH

Proceso: CVD | Tamaño (mm): 200mm

1996 PLASMATHERM 7300 PE(7000) (PECVD_PT#01)

• Fabricante: Plasma-Therm

Proceso: CVD | Tamaño (mm): 200mm

2007 AMAT PRODUCER SE_ACL (2CH)

• Fabricante: Amat
• Modelo: Producer SE

Proceso: CVD | Tamaño (mm): 300mm