Pequeño sistema de recubrimiento por pulverización iónica magnetrón de alta vacío de doble objetivo en Dongguan, Cantón, China

Especificaciones

Condición: nuevo
Pago: L/C D/A D/P T/T Western Union
Puerto de mercancías: Puerto de Xiamén
Certificado: Certificado CE
Categoría: Especificación
Sistema de vacío: bomba de diafragma sin aceite + bomba molecular
Vacío máximo: ≤1.0×10⁻⁴ Pa
Medición de presión: Manómetro de cathodo frío de rango completo + manómetro Pirani de frontal
Control de gas: MFC (controlador de flujo másico) para Ar/O₂/N₂
Configuración de objetivo: Doble objetivo (control independiente, pulverización alterna/síncrona)
Compatibilidad de objetivo: Metales, aleaciones, compuestos (tamaños personalizados disponibles)
Característica opcional: Monitoreo de espesor en tiempo real (precisión nanométrica)
Sistema de refrigeración: Enfriamiento eficiente del objetivo
Protecciones de seguridad: Protección contra sobrepresión/sobrecorriente/sobrecarga, interlock de vacío, válvula de ventilación de emergencia
Categoría: Recubrimiento y laminación en China
Subcategoría: Recubridor pvd
Subcategoría 2: Máquina de laboratorio
Subcategoría 3: Recubridor de sputtering por magnetrón
ID de Anuncio: 108883066

Descripción

Pequeño sistema de recubrimiento por pulverización iónica magnetrón de alta vacío de doble objetivo
Modelo: TMAX-HZ-JS04- Recubridor de pulverización de alta vacío de doble objetivo
Parámetros técnicos
Características clave 1. Flexibilidad de doble objetivo
·Permite deposición de múltiples materiales (p. ej., bicapas, películas graduales o interfaces) en una sola corrida.

Opiniones del vendedor

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