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Sistema de deposición de película por pulverización por sputtering de magnetrón compuesto multiorigen en Dongguan, Cantón, China
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Especificaciones
- Condición
- nuevo
- Pago
- L/C D/A D/P T/T Western Union
- Puerto de mercancías
- Puerto de Xiamén
- Certificado
- Certificado CE
- Categoría
- Parámetro
- Aplicación principal
- Películas nanométricas monocapa/multicapa (recubrimientos duros, metales, semiconductores, dieléctricos)
- Usuarios objetivo
- Universidades, institutos de investigación (I+D y producción a pequeña escala)
- Composición del sistema
- Cámara de vacío, blancos de pulverización, platillo de muestra, bombas de vacío, suministro de gas, sistemas de control, monitor de espesor de película y componentes auxiliares
- Parámetro
- Especificación
- Vacío máximo
- 6,7 × 10-5 Pa
- Tasa de fuga del sistema
- ≤1 × 10-7 Pa·L/s
- Tiempo de recuperación de vacío
- ≤40 min (hasta 6,6 × 10-1 Pa tras purga de N2)
- Componente
- Especificación
- Dimensiones de la cámara
- Ø630 mm × 350 mm (cilíndrico)
- Capacidad de la muestra
- 8 sustratos de 4 pulgadas (1 mm de espesor)
- Característica
- Especificación
- Tipos de objetivo
- 3 × blancos magnéticos permanentes, 3 × blancos magnéticos de alta intensidad
- Método de refrigeración
- Enfriado indirecto por agua (estructura soldada con brazeado)
- Diámetro del objetivo
- Ø100 mm
- Distancia blanco-sustrato
- 50–90 mm (ajuste manual, con indicador de posición)
- Modo de sputtering
- Deposición vertical hacia abajo
- Voltaje de sesgo
- Hasta -200 V
- Mecanismo de rotación
- Revolución controlada por ordenador + rotación (impulsada por motor paso a paso)
- Control de temperatura
- RT a 300°C (requiere una única calibración; 3 calefactores, uno activo a la vez)
- Controladores de caudal mássico (mfc)
- 2 canales
- Monitor de espesor de película
- microbalance de cristal de cuarzo (0–999,999 Å)
- Configuración
- Componentes
- Estándar
- Bomba turbomolecular + bomba de fbas de presión seca
- Alternativa
- Bomba criogénica + bomba de presión seca
- Categoría
- Recubrimiento y laminación en China
- Subcategoría
- Recubridor pvd
- Subcategoría 2
- Máquina de laboratorio
- Subcategoría 3
- Recubridor de sputtering por magnetrón
- ID de Anuncio
- 108883656
Descripción
Sistema de depósito de recubrimiento por pulverización magnetrón de película compuesta multiobjetivo
Opiniones del vendedor
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