Ontrak DSS200 Series 2 en Chandler, Arizona, USA
Renovado
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Especificaciones
- Condición
- renovado
- Limpieza posterior a la limpieza de cmp
- óxido, policristalino, nitruro, tungsteno, aluminio y cobre
- Limpieza de uso general
- Óxidos previos y posteriores a la CVD, postmetallización, topografía de la superficie, trinchera
- Limpieza de silicio
- silicio primo, reutilización de silicio, reutilización del monitor de la planta
- Categoría
- Wafer Cleaning en USA
- Subcategoría
- Wafer/substrate/cleaning
- Subcategoría 2
- Chemical mechanical planarization (cmp)
- ID de Anuncio
- 43699061
Descripción
OnTrak DSS 200 Series 2 double-sided PVA scrubber offers production-proven cleaning results for removing slurry particles. Depending on the application, throughputs of 45-65 wafers per hour are attainable, making the DSS-200 Series 2 the most cost-effective wafer cleaning system for wafers from 100mm to 200mm.
The DSS-200 Series 2 can accommodate a wide range of cleaning process applications such as:
STANDARD FEATURES INCLUDE:
200mm ergonomic load station
Double sided PVA scrub
Dual brush boxes
Dark plastic covers protect light sensitive wafers
Ammonia dispense
IR assisted spin dry station
Robotic unload
Vertical unload station
Touchscreen controls
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