ICP lab type PR removal machine en Cantón, Guangdong, China

Especificaciones

Condición
nuevo
Subcategoría
Pr removal rtp usc
Subcategoría 2
Pr removal rtp usc
ID de Anuncio
94693635

Descripción

Aplicación
LIMPIEZA
Eliminación de polímeros
DESCUM
Eliminación en seco de la capa de máscara dura

Eliminación de fotoresistencia tras implante iónico femenino
Eliminación de resistencia óptica entre medios
Eliminación de fotoresistencia en proceso BAW/SAW
Limpieza en seco de la capa de película gráfica antirreflectante
Oxido de silicio o nitruro de silicio grabado
Eliminación de residuos de la superficie
Limpieza de la superficie tras grabado
Grabado de carburo de silicio

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Fabricante
N/A
Ubicación
🇨🇳 Cantón, Guangdong, China

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Capacidad de respuesta del vendedor:

4.75