Point-of-Use 3500 en Singapur

Una solución ideal para aplicaciones de grabado
El sistema de control de temperatura termoeléctrico en el punto de uso POU3500 ofrece un control de temperatura uniforme y repetible para aplicaciones de grabado por plasma con mayor carga de RF y requisitos de procesamiento a menor temperatura. El sistema POU3500 ofrece control dinámico de la temperatura de la cavidad/electrodo/cátodo y anodo del proceso y puede sincronizarse con cualquier proceso de grabado.
La precisión del POU 3500 permite un control independiente de la temperatura del fluido del proceso hasta el wafer chuck dentro de +/- 0.1 °C del punto de consigna, y el rápido tiempo de respuesta del sistema permite una repetibilidad máximo de wafer a wafer durante todo el proceso de grabado.
Con el POU3500, puedes lograr resultados sin precedentes en rendimiento de grabado, disponibilidad de la cámara, reducción del coste total de propiedad y aprovechamiento del espacio de la planta, todo ello mientras mejoras la fiabilidad de tu proceso.