Usado Metrología / Inspección (Semiconductores) en Corea del Sur

2011 RUDOLPH S3000A

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: S3000A

Tamaño de la oblea: 12 | Envío: EXW | Proceso: Elipsometría láser de haz concentrado

2010 RUDOLPH S3000A

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: S3000A

Tamaño de la oblea: 12 | Envío: EXW | Proceso: Elipsometría láser de haz concentrado

FEI FEM2010F

• Fabricante: FEI
• Modelo: FEM2010F

Detalles: Doble haz | Envío: El embalaje y el envío corren a cargo del comprador | Comentarios: FEI FEM2010F Doble viga

2003 NANOMETRICS CALIPER_MOSAIC

• Fabricante: Nanometrics
• Modelo: CALIPERMOSAIC

Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: Superposición | Envío: EXW

2013 RODOLPH Meta Pulse 300

• Fabricante: RODOLPH

Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: Medición de la espesura de la película | Envío: EXW

RODOLPH Meta Pulse 300

• Fabricante: RODOLPH

Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: Medición del espesor de la película | Envío: EXW

J.A Woollam VUV-VASE

• Fabricante: J.A Woollam

Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: Elipsómetro | Envío: EXW

2001 HITACHI S4700-I

• Fabricante: Hitachi
• Modelo: S 4700

Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: Microscopio electrónico de barrido | Envío: EXW

RUDOLPH S3000A

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: S3000A

Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: Elipsometría láser de haz concentrado | Envío: EXW

LINDA IN5-HI

• Fabricante: LINDA

Tamaño de la oblea: * | Envío: EXW

RUDOLPH FE-3

• Fabricante: Rudolph

Tamaño de la oblea: 8" | Proceso: Elipsómetro de enfoque | Envío: EXW

2008 RAYTEX RXW-800

• Fabricante: RAYTEX

Tamaño de la oblea: 8" | Proceso: ESCÁNER DE BORDES | Envío: EXW

2000 RUDOLPH MP200

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: MP200

1998 RODOLPH Meta Pulse 200

• Fabricante: RODOLPH

Tamaño de la oblea: 8 | 3 tamaño de la oblea: 8" | Envío: EXW

2003 RUDOLPH Meta Pulse 300

• Fabricante: Rudolph

Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: Medición del espesor de la película