Equipos de semiconductores » Equipos de deposición (CVD, PVD)

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Usado sputter

  • 1997 amat P5000

    1997 amat P5000

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamaño de la oblea: 8" | Cámara: SACVD Delta TEOS 3Ch,SPUTTER 1ch

    Massachusetts, USA
  • 1996 AMAT P5000

    1996 AMAT P5000

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamaño de la oblea: 8" | Cámara: SACVD Delta TEOS 3Ch, SPUTTER 1ch

    Massachusetts, USA
  • AMAT P5000 SPUTTER

    AMAT P5000 SPUTTER

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamaño de la oblea: 8" | Proceso: SPUTTER | Envío: EXW

    Corea del Sur
  • VARIAN MB2-830

    VARIAN MB2-830

    • Fabricante: Varian
    • Modelo: MB2-830

    Tamaño de la oblea: 8" | Proceso: SPUTTER | Envío: EXW

    Corea del Sur
  • VARIAN VARIAN M2I

    VARIAN VARIAN M2I

    • Fabricante: Varian
    • Modelo: M2I

    Tamaño de la oblea: 8" | Proceso: SPUTTER | Envío: EXW

    Corea del Sur
  • 1998 AMAT P5000 CVD

    1998 AMAT P5000 CVD

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamaño de la oblea: 8" | Proceso: Delta Teos 3ch, SPUTTER 1ch | Envío: EXW

    Corea del Sur
  • 2000 AMAT P5000 SACVD

    2000 AMAT P5000 SACVD

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamaño de la oblea: 8" | Proceso: Delta TEOS 3ch + Sputter 1Ch | Envío: EXW

    Corea del Sur
  • 2000 AMAT P5000 CVD

    2000 AMAT P5000 CVD

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamaño de la oblea: 8" | Proceso: Delta TEOS 3ch + Sputter 1Ch | Envío: EXW

    Corea del Sur
  • Varian M2I

    Varian M2I

    • Fabricante: Varian
    • Modelo: M2I

    Tamaño de la oblea: 8" | Proceso: Pulverización catódica | Cámara: 3C/H | Envío: EXW

    Corea del Sur
  • 2000 AMAT P 5000

    2000 AMAT P 5000

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamaño de la oblea: 20 cm

    Gyeonggi, Corea del Sur

Resumen

CVD (Deposición Química de Vapor) y PVD (Deposición Física de Vapor) son tecnologías avanzadas de recubrimiento utilizadas para aplicar películas delgadas o recubrimientos a varios sustratos. El CVD implica reacciones químicas en la superficie de un sustrato calentado, mientras que el PVD implica la vaporización física de un material que luego se condensa en el sustrato. Estos procesos se utilizan ampliamente en industrias como la electrónica, aeroespacial y automotriz para mejorar las propiedades de los materiales, como la dureza, la resistencia al desgaste y la protección contra la corrosión.

FAQ (PREGUNTAS MÁS FRECUENTES)

¿Qué debo considerar al comprar una máquina CVD/PVD?

Considere la capacidad de la máquina, la compatibilidad con los materiales de recubrimiento deseados y los requisitos específicos de aplicación. También verifique el estado de la máquina, su antigüedad y su historial de mantenimiento.

¿Cómo puedo asegurarme de que la máquina CVD/PVD se envíe de manera segura a mi ubicación?

Utilice un servicio de transporte especializado con experiencia en el manejo de equipos industriales delicados y de alto valor. Asegúrese de que la máquina esté correctamente empaquetada y asegurada para evitar daños durante el tránsito.

¿Cuál es el programa de mantenimiento para una máquina CVD/PVD?

El mantenimiento regular incluye la limpieza de la cámara, la revisión y reemplazo de filtros, la inspección de sellos y la calibración del sistema. Siga las pautas del fabricante para los intervalos de mantenimiento detallados para garantizar un rendimiento óptimo.