Usado Litografía (Fotolitografía)

Sistema de Recubrimiento por Sputtering de Wafers para Deposición de Películas Finas Metálicas/ dieléctricas en Semiconductores/Óptica

• Fabricante: TMAXCN

Pago: L/C D/A D/P T/T Western Union | Puerto de mercancías: Puerto de Xiamén | Certificado: Certificado CE

Sistema de Recubrimiento por Sputtering de Wafers para Deposición de Películas Finas Metálicas/ dieléctricas en Semiconductores/Óptica

• Fabricante: TMAXCN

Pago: L/C D/A D/P T/T Western Union | Puerto de mercancías: Puerto de Xiamén | Certificado: Certificado CE

TEL ACT 12 SOD

• Fabricante: Tokyo Electron - TEL
• Modelo: ACT-12

Tamaño de la oblea: 300 | Fecha disponible: 13/11/2024 | Grupo: Electrónica | Propietario: Micrón | Familia: Equipo de Procesamiento de Resistencia

TEL ACT 12 SOD

• Fabricante: Tokyo Electron - TEL
• Modelo: ACT-12

Tamaño de la oblea: 300 | Fecha disponible: 31/07/2024 | Grupo: Electrónica | Propietario: Micrón | Familia: Equipo de Procesamiento de Resistencia

2013 IMAGE

• Fabricante: Orbotech

PSK Inc. TERA21

• Fabricante: PSK Inc.

PHOTO Thermo Electron

• Fabricante: Thermo Fisher Scientific

PHOTO TSK-03C-02-60

• Fabricante: PHOTO

2014 CANON FPA-5510IX

• Fabricante: Canon
• Modelo: FPA

Tamaño de la oblea: 8", 12" | Proceso: stepper

Wintel EUV

• Fabricante: Wintel

SCREEN RF3S

• Fabricante: Screen
• Modelo: RF3S

Tamaño de la oblea: 12" | Envío: EXW

PHOTO SK-200W-BVPE

• Fabricante: PHOTO

Proceso: i-Line Photo Track(3C3D) | Tamaño de la oblea: 8"

Exposición de máscara de soldadura PCB LDI

• Fabricante: Everest Group

No.: Elemento; especificación técnica; observaciones | 1: Modelo de máquina de exposición; ADI-ST-650. | 2: Tipo de mesa; Mesa única. | 3: Métodos de carga y descarga; Manual. | 4: Tamaño máximo de sustrato; 635m...