Usado Etching Systems

PSC DES-220-456-AVL

• Fabricante: PSC

Proceso: SISTEMA DE GRABADO EN SECO | Tamaño de la oblea: * | Envío: EXW

BMR GAN(A49-3)

• Fabricante: BMR

Tamaño de la oblea: 4" | Proceso: B-2 | Envío: EXW

AXIC PLASMASTAR 200 Etcher / Asher

• Fabricante: Axic

AXIC PLASMASTAR 200 Etcher / Asher

• Fabricante: Axic

Color: Negro | Mpn: PlasmaStar 200

Sistema Oxide Etcher (Sistema Dielectric Etcher)

Sistema de grabado en metal

Sistema de grabado por polvos (Sistema de grabado de conductor)

2009 SUNIC, TENACIER-400VE, ICP Etcher

• Fabricante: SUNIC

Número de serie: SP0906 | Cantidad: 1 | Detalle del equipo: Grabador ICP | Equipo: Grabador ICP

Sistema Boundless Genius1125, XeF2 ETCHER

• Fabricante: Boundless system

Cantidad: 1 | Detalle del equipo: XeF2 ETCHER | Equipo: XeF2 ETCHER | Descripción: N/A

Sistema Boundless, Genius1125, XeF2 ETCHER

• Fabricante: Boundless system

Número de serie: N/A | Cantidad: 1 | Detalle del equipo: XeF2 ETCHER | Equipo: XeF2 ETCHER | Descripción: N/A

DAESUNG, ET214, GRABADOR DE SEMILLAS (ESTACIÓN DE GRABADO)

• Fabricante: DAESUNG

Número de serie: N/A | Cantidad: 1 | Detalle del equipo: GRABADOR DE SEMILLAS (ESTACIÓN DE GRABADO) | Equipo: GRABADOR DE SEMILLAS (ESTACIÓN DE GRABADO) | Descripción: Oblea de 200 mm

2012 Plasma Therm, VERSALINE, ICP-RIE Etcher

• Fabricante: Plasma-Therm
• Modelo: VERSALINE

Número de serie: N/A | Cantidad: 1 | Detalle del equipo: Grabador ICP-RIE | Equipo: Grabador ICP-RIE | Descripción: Oblea de 200 mm (máx.)

2011 Tainics, TE3100, Grabador ICP

• Fabricante: Tainics

Número de serie: N/A | Cantidad: 1 | Detalle del equipo: Grabador ICP | Equipo: Grabador ICP | Descripción: Grabado GaN normal, Grabado GaN alto, Grabado PSS