Tamaño de la oblea: 8" | Envío: EXW
Tamaño de la oblea: 8" | Proceso: 2C / 2D
Las pistas de coat/develop son sistemas automatizados de proceso húmedo en fotolitografía que aplican fotoresist, realizan horneados y desarrollan obleas expuestas. Integran spin coaters, placas de horneado, módulos de revelado, manejo de disolventes y automatización de cassettes en una pista lineal para espesor de película uniforme y alto rendimiento. Las unidades usadas varían en tamaño de cassette, nivel de automatización y compatibilidad química; confirme tamaño de oblea y tipos de resist antes de comprar.
Compruebe la capacidad del cassette, soportes de tamaño de oblea, historial de químicos, registros de mantenimiento, estado de bombas y spinners, y disponibilidad de repuestos y manuales.
Realice una descontaminación certificada, drene y purgue las líneas químicas, asegure los componentes para el transporte y obtenga documentación de limpieza.
Normalmente se requieren agua DI, drenaje de solventes, nitrógeno/aire seco, suministro eléctrico adecuado, extracción/ventilación y a veces agua refrigerada o líneas de vacío.
Cambio de filtros y bombas, inspección de sellos y tuberías, verificación de rodamientos del spinner, calibración de placas de horneado y limpieza de líneas químicas según el uso.
Los consumibles OEM y repuestos críticos pueden tardar; confirme disponibilidad de juntas, piezas de bomba, spin chucks y controladores antes de comprar.