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Nuevo Grabado De Plasma (Grabado En Seco) en USA

Resumen

El grabado por plasma (grabado en seco) emplea gases ionizados y potencia RF para eliminar material de obleas con alta precisión. Los equipos integran cámaras de vacío, suministro de gases, fuentes RF/microondas y manejo de obleas para lograr perfiles de grabado anisotrópicos o selectivos en semiconductores, MEMS y materiales avanzados. Varían en tamaño de cámara, rendimiento y química (RIE, ICP) y requieren control estricto de flujo de gas, ajuste RF y limpieza de vacío.

FAQ (PREGUNTAS MÁS FRECUENTES)

¿Qué debo revisar al comprar un grabador por plasma usado?

Revisar el estado de la cámara, desgaste de electrodos y liners, salud del generador RF, horas y mantenimientos de la bomba de vacío, calibración de MFC, recetas de proceso y disponibilidad de repuestos.

¿Cómo preparar el equipo para el envío?

Purgar e aislar las líneas de gas, drenar o asegurar bombas con aceite, retirar o fijar partes frágiles, tapar puertos, proteger componentes RF y optar por izado profesional y transporte con control climático.

¿Qué mantenimiento rutinario necesita el equipo?

Limpieza periódica de la cámara, sustitución de liners y electrodos, servicio de bombas de vacío, calibración de MFC y sensores, comprobación de ajuste RF y pruebas de hermeticidad.