Equipos de semiconductores » Equipos de deposición (CVD, PVD)

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Usado Equipos De Deposición (Cvd, Pvd)

Roll to roll coating equipment
Suzhou, China
Vacuum evaporation coating equipment
Suzhou, China
Magnetron sputtering coating equipment
Suzhou, China
Optical coating equipment
Suzhou, China
AIRPORT
Shenzhen, China
Vendedor de confianza
IWAKI CT-U25N-1
- Fabricante: Iwaki
Toda, Japón
2004 Novellus C3 Speed XT
- Fabricante: Lam Research - Novellus
Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: CVD | Cámara: 3C/H
Georgia, USA
2005 Novellus C3 Speed XT
- Fabricante: Lam Research - Novellus
Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: CVD | Cámara: 3C/H
Georgia, USA
2004 Novellus C3 Speed XT
- Fabricante: Lam Research - Novellus
Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: CVD | Cámara: 3C/H
Georgia, USA
2004 Novellus C3 Speed XT
- Fabricante: Lam Research - Novellus
Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: CVD | Cámara: 3C/H
Georgia, USA
2005 Novellus C3 Speed XT
- Fabricante: Lam Research - Novellus
Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: CVD | Cámara: 3C/H
Georgia, USA
2006 Novellus C3 Speed XT
- Fabricante: Lam Research - Novellus
Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: CVD | Cámara: 3C/H
Georgia, USA
AMAT DPS II
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: OXIDO | Cámara: 3C/H
Georgia, USA
AMAT CENTURA 1996
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamaño de la oblea: 8" | Cámara: 3C/H
Massachusetts, USA
1995 AMAT P5000
- Fabricante: Amat
- Modelo: P5000
Tamaño de la oblea: 6" | Cámara: 1+1C/H (1CVD + 1ETCH)
Massachusetts, USA