SGW®X-4 / SGW®X-4A Melting-point Apparatus with Microscope
Rango de medición: RT-320℃ | Repetibilidad: <200℃:±1℃;200-320 ℃:±2℃ | Modo de observación: Microscopio monocular | Aumento óptico: 10X (lente ocular) 4X (lente objetivo)
Shanghái, China
Rango de medición: RT-320℃ | Repetibilidad: <200℃:±1℃;200-320 ℃:±2℃ | Modo de observación: Microscopio monocular | Aumento óptico: 10X (lente ocular) 4X (lente objetivo)