CD‑SEM (Microscopía Electrónica de Barrido para Dimensión Crítica) es una herramienta de inspección de alta precisión usada en metrología de semiconductores para medir anchuras de línea, espacios y perfiles en obleas y máscaras. Combina imagen electrónica con software avanzado para mediciones CD a escala nanométrica, control de overlay y análisis de defectos. Se usa en fábricas y I+D y requiere entorno controlado, calibración regular y mantenimiento especializado.
Revise registros de mantenimiento y vacío, estado de la columna y detectores, licencias de software, certificados de calibración, disponibilidad de repuestos y mejoras realizadas.
Asegure la clase de sala limpia adecuada, aislamiento anti‑vibraciones, alimentación eléctrica estable y puesta a tierra, refrigeración/air‑conditioning, conexiones de aire/gas y carga de suelo adecuada.
Con transporte especializado que incluya bloqueo de columna, control climático, sensores de choque, embalaje reforzado y planificación de desembalaje y cualificación in situ.
Mantenimiento de bombas de vacío, comprobación/cambio de la fuente electrónica, limpieza de detectores, calibración del escenario, actualizaciones de software y mantenimiento preventivo por técnicos.
No siempre; solicite certificados de calibración recientes o programe calibración con el fabricante o un laboratorio acreditado y establezca verificaciones periódicas.